تولید پوشش نانوساختار NbSi2 روی آلیاژ Ti-6Al-4V به روش پاشش حرارتی پلاسمایی |
کد مقاله : 1994-IMES-CONGR-FULL |
نویسندگان: |
زهره یزدانی *1، Fathallah Karimzadeh2، Mohammad Hasan Abbasi3 1اصفهان خ فروردین ک مقدس پور پ 108 2Department of Materials Engineering, Isfahan University of Technology 3اصفهان، دانشگاه صنعتی اصفهان |
چکیده مقاله: |
آلیاژ Ti6Al4V به عنوان یک آلیاژ با ساختار α+β از اهمیت ویژه ای برخوردار است و کاربردهای ویژه ای در صنایع هوافضا، حمل و نقل، دریایی و شیمیایی را به خود اختصاص داده است. در واقع این آلیاژ هر دو ویژگی مقاومت به خوردگی خوب آلیاژهای α و ویژگی های مکانیکی عالی آلیاژهای β را دارا می باشد. با این حال، رفتار تریبولوژیکی ضعیف و نیز مقاومت به اکسیداسیون کم آن در دمای بالا، کاربرد این آلیاژ را در بسیاری از موارد محدود کرده است. از جمله راهکارهای مناسب برای بهبود این خواص، مهندسی سطح و فرایند پاشش حرارتی است. سیلیسایدهای فلز انتقالی به ویژه دی سیلیسایدهای نیوبیم و مولیبدن (NbSi2 , MoSi2) دارای ویژگی های مناسبی از قبیل دانسیته پایین، نقطه ذوب بالا، استحکام دما بالای مناسب هستند و کاندیدهای مناسبی برای پوشش های مقاوم به اکسیداسیون دما بالا و سایش آلیاژ تیتانیم می باشند. بنابراین در این پژوهش پوشش نانوساختار NbSi2 توسط روش پاشش حرارتی پلاسمایی بر روی زیرلایه Ti-6Al-4V اعمال گردید. ابتدا پودرهای حاصل از آلیاژسازی مکانیکی به منظور حصول دانه بندی مناسب برای پاشش، تحت فرایند آگلومراسیون قرار گرفتند. به منظور ارزیابی پوشش بدست آمده از تکنیک های میکروسکوپ الکترونی روبشی، آنالیز پراش پرتو ایکس و میکروسختی سنجی استفاده گردید. درصد تخلخل پوشش با استفاده از آنالیز تصویر اندازه گیری شد. میزان سختی پوشش 800 ویکرز و همچنین تخلخل 5 درصد گزارش شد. نتایج نشان داد پوشش بدست آمده دارای چسبندگی مناسب به زیرلایه می باشد و اندازه دانه ذرات نیز پس از پاشش در محدود نانومتری قرار دارند. همچنین پوشش رفتار خوبی در برابر اکسیداسیون دما بالا از خود نشان داد. |
کلیدواژه ها: |
Ti6Al4V، پاشش حرارتی، نانوساختار، NbSi2 |
وضعیت : مقاله برای ارائه شفاهی پذیرفته شده است |